بررسی بهبود بخشی پلاسمایی پلاسمای ترکیبی نیتروژن و اکسیژن بر خواص فوتوکاتالیستی لایه های نازک دی اکسید تیتانیوم

بررسی نانو لایه های دی اکسید تیتانیوم آلاییده با نیتروژن

در این تحقیق اثر افزایش آلایش نیتروژن در نانو لایه های TiO2 را روی خواص آبدوستی بررسی کردیم. نمونه‌ها به روش افشانه داغ تهیه شد. زمان باز‌پخت نمونه‌ها که نقش مهمی در ساختار نهایی نانو لایه‌ها دارد، 450 درجه سانتیگراد بود. مشاهده شد که خاصیت آبدوستی نمونه‌ها تحت نور فرابنفش، با افزایش درصد نیتروژن، افزایش می‌یابد. آبدوستی چهار نمونه آلاییده ت...

بررسی تاثیر کاشت یون نیتروژن بر خواص لایه نازک اکسید روی (ZnO)

در این پژوهش، اثر کاشت یون +N در نیم‌رسانای ZnO (اکسید روی) جهت بررسی تغییرات خواص لایۀ نازک ZnO  بررسی شده است. بدین منظور لایۀ نازکی از ZnO به ضخامت nm ١٢۰ با استفاده از روش کندوپاش تهیه شد و سپس به وسیلۀ یون­های N+ با انرژی keV ۵۰ و شار ١۰١٤ (/cm2یون) به مدت زمان ۳ ثانیه بمباران شد. تأثیر کاشت یون+N در خواص بلوری ZnO توسط آنالیزXRD (پراش پرتو X) و تغییرات ریخت­شناسی سطح به وسیلۀ آنالیزهای AF...

بررسی اثر غلظت وانادیوم بر خواص اپتیکی و الکتریکی لایه نازک نانو ساختار دی اکسید تیتانیوم تهیه شده به روش سل – ژل

در این پژوهش، لایه نازک دی اکسید تیتانیوم آلاییده شده با وانادیوم با غلظت­های مختلف ( 5/1،0 و 5 درصد وزنی) به روش سل-ژل بر روی زیرلایه­های شیشه­ای رسوب داده شد. خواص ساختاری، آنالیز عنصری، الکتریکی، اپتیکی و زبری سطح لایه­های نازک به ترتیب توسط روش­های XRD، DES، LCR meter، طیف سنجی UV-Vis  و AFM مورد مطالعه قرار گرفت.  نتایج الگوی XRD نشان داد که لایه­های نازک دارای ساختار پلی کریستالی تتراگونا...

اثر افزودنی های آلی بر خواص ساختاری و الکتروکرومیکی لایه های نازک اکسید تنگستن

بررسی عملکرد فوتوکاتالیستی نانولوله های هم‏راستای تیتانیوم دی اکسید در محلول های آلاینده آلی دارای هیدروژن پراکسید

در این پژوهش، نانولوله­ های منظم و هم‏راستای تیتانیوم دی­اکسید با روش اکسایش آندی الکتروشیمیایی دو مرحله­ ای در الکترولیت پایه اتیلن گلایکول دارای آمونیوم فلورید و آب مقطر سنتز شدند. به منظور بررسی تاثیر هیدروژن پراکسید (2O2H) بر ساختار و خاصیت فوتوکاتالیستی نانولوله­ های 2TiO، تخریب فوتوکاتالیستی 2و4-دی­...

بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...